Review of the tender

English below.

Процедурата предвижда изработване и доставка до завод производител на CMOS оптични сензори DBHitek (Корея).
Минимални технически и/или функционални характеристики
Комплект фотолитографски маски, съвместими с полупроводниковата производствена технология IB11SJ представляваща 110 nm CIS CMOS процес.
Комплектът следва да включва общо 42 броя фотолитографски маски, съответстващи по функционалност и технологични параметри на масковия набор описан в документацията в процедурата.
Всяка маска следва да бъде изработена с необходимия клас на прецизност, точност на позициониране и технологични характеристики, съобразени с
изискванията на съответния технологичен слой и производствения процес.
Оптичното увеличение на маските е 4:1, размер 6x6 in.

The procedure provides for the manufacture and delivery to a CMOS optical sensor manufacturer DBHitek (Korea).
Minimum technical and/or functional characteristics
A set of photolithographic masks compatible with the IB11SJ semiconductor manufacturing technology, representing a 110 nm CIS CMOS process.
The set should include a total of 42 photolithographic masks, corresponding in functionality and technological parameters to the mask set described in the documentation in the procedure.
Each mask should be manufactured with the required class of precision, positioning accuracy and technological characteristics, consistent with
the requirements of the respective technological layer and the production process.
The optical magnification of the masks is 4:1, size 6x6 in.